admin 百科大全 2023-02-06 16:14:59

全球光刻胶行业现状及竞争分析中国市场增长速度快日本企业占据龙头地位

一、全球光刻胶市场规模持续增长，中国市场发展潜力大

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。全球光刻胶的生产销售起步于20世纪50年代，市场规模总体保持增长。2010-2020年全球光刻胶市场规模由55.5亿美元增长至87亿美元，CAGR保持在4.6%左右。随着汽车、人工智能、国防等电子技术的进步，预计2020-2026年光刻胶CARG将达5.5%，到2026年将超过120亿美元。

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）

根据观研报告网发布的《中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）》显示，从国内发展情况看，随着光刻胶下游产业向亚太地区转移，我国光刻胶行业增长迅速，增速快于全球。据数据，2010-2020年市场规模由26.9亿元增长至87.4亿元，CAGR达到12.5%。目前国内光刻胶市场规模占全球市场规模的比重不高于20%，增长空间较大。预计2020-2026年我国光刻胶CARG将高达7.2%，2026年市场规模将达156.4亿元。

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）

二、光刻胶下游市场分布均衡，其中半导体光刻胶占比持续增长

作为电子产品细微加工技术的关键性电子产品，光刻胶被广泛应用于半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）等领域。LCD光刻胶分为彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等，PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等，半导体光刻胶包括G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。

光刻胶分类

分类细分类别半导体光刻胶G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等LCD光刻胶彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等PCB光刻胶干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等其他用途CCD摄像头彩色滤光片彩色光刻胶、触摸屏透明光刻胶、MEMS光刻胶、生物芯片光刻胶等

资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）

半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）三大领域光刻胶需求占比超70%，分别占全球总消费量的23.3%、25.9%和23.6%。光刻胶中半导体光刻胶应用需求提升速度较快，主要原因在于，随着新能源汽车、5G通讯、物联网等行业的发展，下游应用功率半导体、传感器、存储器等需求的扩大，半导体行业快速发展，也带动上游半导体材料需求增长。

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）

三、光刻胶行业高度集中，日本企业占据龙头地位

光刻胶的性能指标包括分辨率、对比度、灵敏度、粘度、粘附性、抗蚀性和表面张力等，对生产技术要求较高，主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三个方面。除技术壁垒外，光刻胶行业还存在客户壁垒、原料壁垒。光刻胶行业进入门槛高，市场高度集中，CR4约70%。

光刻胶行业壁垒

壁垒具体情况技术壁垒光刻胶技术壁垒主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三方面。配方技术方面，光刻胶下游应用广泛，不同的客户会有不同的应用需求，同一个客户也有不同的光刻应用需求。一般一块半导体芯片在制造过程中需要进行10-50 道光刻过程，由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等，不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样，即使类似的光刻过程，不同的厂商也会有不同的要求。针对以上不同的应用需求，光刻胶的品种非常多，这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。因此，通过调整光刻胶的配方，满足差异化的应用需求，是光刻胶制造商最核心的技术。质量控制技术方面，由于用户对光刻胶的稳定性、一致性要求高，需要光刻胶对感光灵敏度、膜厚的一致性保持在较高水平，因此，光刻胶生产商不仅仅要配置齐全的测试仪器，还需要建立一套严格的QA 体系以保证产品质量稳定。原材料技术方面，光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产品，由树脂、光引发剂、溶剂和添加剂等不同性质的原料，通过不同的排列组合，经过复杂、精密的加工工艺而制成。因此，光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用。客户壁垒下游客户认证过程复杂、周期长，更换合作商意愿不强。由于光刻胶技术壁垒较高且对电子元器件、部件的功能和稳定性影响大，下游客户对光刻胶专用化学品供应商的选择非常谨慎，通常采用认证采购的模式。认证过程包括“小试、样品认证、中试、工厂现场审核、批量生产”等多个环节，将对相关供应商的质量水平、研发实力、技术保障和售后服务进行详尽的考察和认证。认证所需时间周期较长，通常LCD光刻胶的验证周期为1-2年，半导体光刻胶的验证周期为2-3年左右。由于认证成本较高、更换风险比较大，下游客户非常重视与其合格供应商建立长期稳定的合作关系，切换原有光刻胶供应的意愿不强。原材料壁垒光刻胶专用性强。不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，导致对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同，因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊。

资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2030年）

从竞争情况看，全球光刻胶市场主要被日美企业垄断，其中日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据龙头地位。数据显示，2020年，日本企业在半导体光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。在半导体光刻胶的细分市场中，2020年，日本东京应化在G/I线、KrF和EUV光刻胶市场的份额位列全球第一，分别是25.2%、31.4%和51.8%；而在ArF光刻胶产品市场中，日本JSR以24.9%的市场份额位列全球第一；此外，美国杜邦公司在G/i 线光刻胶市场中也占据明显优势，市场份额位列全球前二。